Все о Цифровых системах - новости, статьи, обзоры, аналитика. Более 1000 компаний, товаров и услуг в каталоге.
Добавить компанию

Canon отправляет первую машину для производства чипов с нанопечатью в научную лабораторию

Рубрика: «Наука»

Canon отправляет первую машину для производства чипов с нанопечатью в научную лабораторию

Компания Canon отправила свою первую машину для нанопечатной литографии в Техасский институт электроники для использования в научно-исследовательских лабораториях.

Нанопечатная литография (англ. nanoimprint lithography) — технология, предназначенная для переноса изображения наноструктуры или электронной схемы на подложку с покрытием и включающая деформацию покрытия штампом с последующим травлением деформированного покрытия и формированием на подложке наноструктуры или элементов электронной схемы.

В октябре прошлого года японская транснациональная компания объявила о запуске в коммерческую эксплуатацию системы производства полупроводников с использованием нанопечатная литографии. Первой реализацией стало устройство размером с комнату под названием FPA-1200NZ2C. Теперь гигант в области обработки изображений отправил один из своих литографических аппаратов нанопечати в Техасский институт электроники. Машина будет использоваться в рамках исследований и разработок для передовых полупроводников и производства прототипов.

Canon отправляет первую машину для производства чипов с нанопечатью в научную лабораторию

По словам представителей Canon, их процесс нанопечатной литографии дешевле и потребляет меньше энергии, в сравнении с конкурирующими устройствами, использующими более традиционный оптический подход. Для нанопечатной литографии не требуется источник света, использующий экстремальные длины волн ультрафиолета (EUV), с которыми трудно работать.

В отличие от обычного фотолитографического оборудования, которое переносит рисунок схемы, проецируя его на покрытую резистом пластину, новый продукт делает это, вдавливая маску с отпечатанным рисунком схемы в резист на пластине, как штамп. Поскольку процесс переноса рисунка схемы не проходит через оптический механизм, тонкие рисунки схемы на маске могут быть точно воспроизведены на пластине. Благодаря уменьшенному энергопотреблению и низкой стоимости новая система позволяет создавать рисунок с минимальной шириной линии 14 нм, что эквивалентно 5-нм узлу, который требуется для производства самых современных логических полупроводников.

Но возникает вопрос о том, как изготавливается форма или маска? Ответ заключается в том, что они также изготавливаются на другом специальном оборудовании – разумеется, производства Canon.

Заместитель исполнительного директора Canon по оптическим продуктам Кадзунори Ивамото планирует продавать ежегодно от 10 до 20 единиц устройств нанопечатной литографии в течение ближайших пяти лет.

Источник: