IBM, Micron и другие компании создают исследовательскую лабораторию по производству микросхем
Центральным элементом объекта станет машина размером с грузовик под названием Twinscan EXE:5200. Ожидается, что система, созданная ASML Holding NV, станет краеугольным камнем предстоящего процесса производства двухнанометровых чипов, над запуском которого в настоящее время работает полупроводниковая промышленность. IBM, Micron и другие компании, помогающие построить новую исследовательскую лабораторию в Нью-Йорке, будут использовать ее для изучения того, как производители микросхем могут максимально эффективно использовать возможности Twinscan EXE:5200.
Объект будет расположен на территории нанотехнологического комплекса при Университете Олбани, где IBM уже управляет исследовательским центром. Управляющая комплексом некоммерческая организация NY CREATES будет координировать процесс строительства. Проект будет поддержан государственным фондом в размере 1 миллиарда долларов и частными инвестициями на сумму не менее 9 миллиардов долларов
Строительство начнется в 2024 году и, как ожидается, завершится в течение двух лет. Когда лаборатория будет полностью введена в эксплуатацию, в ее распоряжении будет около 4’600 квадратных метров чистых помещений, подходящих для размещения оборудования используемого для производства полупроводников. Помимо IBM и Micron, объект также будут использовать поставщики оборудования для производства микросхем Applied Materials Inc. и Tokyo Electron Ltd., а также другие организации.
«Новый центр в Олбани обеспечит мощный поток инноваций в области полупроводников, ускоряя рост мировой индустрии микросхем и помогая удовлетворить производственный спрос на новые технологии, такие как генеративный искусственный интеллект», — сказал генеральный директор IBM Арвинд Кришна.
Система Twinscale EXE:5200, которая будет установлена на предприятии, стоит более 300 миллионов долларов. Это преемник машин для экстремальной ультрафиолетовой литографии (EUV), производимых нидерландским поставщиком оборудования для производства микросхем ASML. EUV-машины компании используются для производства самых быстрых и энергоэффективных процессоров на рынке.
EXE:5200 работает аналогично нынешним EUV-системам ASML: несколько раз в секунду он испаряет небольшое количество олова, создавая постоянный поток лазерных импульсов. Эти лазерные импульсы вырезают узоры в форме транзисторов на кремниевых пластинах, образуя функционирующие схемы.
Ключевое различие между машинами заключается в их разрешении. EUV-системы нынешнего поколения вырезают узоры транзисторов с максимальной точностью 13 нанометров. Новая EXE:5200 может достичь гораздо лучшего разрешения — 8 нанометров, таким образом он способен производить транзисторы меньшего размера и с более низким энергопотреблением. В свою очередь, транзисторы меньшего размера облегчают создание более быстрых микросхем.
